石斛大棚栽培技术概述

一、 光照： 原生环境一般都是在树阴下和背阴处。环境需要适度遮光，光照强度20000Lux左右。

二、 温度：在5℃以下停止生长，开始休眠。气温过低时，应注意冻害，最好保持在0℃以上。气温过高，35℃左右也会停止生长，最适宜的生长温度为25℃~30℃左右。

三、 基质：宜采用透气性好，滤水性好的基质作为材料。一般推荐用兰石+颗粒泥炭+树皮的混合材料。但由于大规模生产，成本相对较高，也可选用单一树皮作为基质。

四、 湿度：配备湿度计，最好将湿度保持在60%以上，阴雨天气时，湿度在90%以上时应加强通风，防止细菌性、真菌性病害发生。

五、 补水方式和水质：浇水应勤喷雾，少淋透。一般需等基质干时再淋透。水质应偏弱酸，有条件的话，水的PH值应在6.0左右的软水。

六、 通风：“兰贵通风” 。空气的流通对来说很重要,也能减少病害的发生.空气流通对基质内的根也是一样重要,所以我们推荐选用颗粒的材料,而且浇水一定要浇透,把新鲜的空气带入 基质中。

七、 施肥方式：使用N：P：K为20：20：20及添加微量元素的复合肥料。薄肥勤施，切不可重肥使用，否则会造成肥害。每年春季发芽时，也可施用缓释肥料作为底肥。